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實驗級三溫區管式爐采用了控制單元和爐膛一體化設計。整體雙層風冷結構設計，使表面溫度保持在60℃以下。爐膛本身采用了高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型，加熱元件為電阻絲。散熱系統采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃。真空腔室采用石英管材質，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的均勻性。

TFD熱重立式爐由控制中心、加熱爐主體、升降裝置、水冷裝置、測量裝置及進氣系統等構成，是一款自動化程度較高的產品。爐膛本身采用高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型，加熱元件為電阻絲。散熱系統采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃。采用宇電控溫儀和K型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備配有測重裝置，可實時記錄反應過程中物料重量變化，并可電腦記錄控制進氣流量。

催化劑氣氛焙燒活化器，針對催化劑領域的氣氛焙燒/活化過程中的客戶痛點，如：樣品裝填與轉移不便，不同位置的顆粒處理效果不一致，不同批次的重復性差，粉末迸濺，產物和溶劑無法及時排出，管壁污染與清洗，操作不便，占用空間等等。 科冪自主研發的催化劑氣氛焙燒/活化器將帶來更好的處理效果和操作體驗。

實驗級助力管式爐采用了控制單元和爐膛一體化設計。整體雙層風冷結構設計，使表面溫度保持在60℃以下。爐膛本身采用了高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型，加熱元件為電阻絲。散熱系統采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃。真空腔室采用石英管材質，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的均勻性。

單溫區PE-CVD系統高性能射頻電源.等離子體更穩定；滑軌式結構能使整個反應腔室都處于輝光產生區.并可實現快速升溫和降溫功能；$n與傳統CVD相比較.生長溫度更低

1500單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1400℃，最高溫度可達1450℃。采用宇電控溫儀表和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環密封技術，可應用于CVD實驗、熒光粉制備、真空或氣氛下材料燒結、基片鍍膜等實驗環境。